Y.Suda, M.Shirahama, and M.Ishida: "Sub-atomic-layr epitaxy of Si using Si_2H_6" Proceedings 3rd IUMRS Int.Conf.on Advanced Materials.ed.by S.Somiya, M.Doyama, M.Hasegawa, and S.Yamada (Elsevier, Amsterdam). (in press). (1994)
Y.Suda, M.Shirahama, and M.Ishida: "Sub-atomic-layr epitaxy of Si using Si_2H_6" Proceedings 3rd IUMRS Int.Conf.on Advanced Materials.ed.by S.Somiya, M.Doyama, M.Hasegawa, and S.Yamada (Elsevier, Amsterdam). (in press). (1994)
复制标题
Y.Suda、M.Shirahama 和 M.Ishida：“使用 Si_2H_6 进行 Si 的亚原子层外延”论文集第三届 IUMRS Int.Conf.on Advanced Materials.ed.by S.Somiya、M.Doyama、M.Hasekawa
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
