Tagawa M.,et al.: "“Formation of thin oxide films on room-temperature silicon(100)by exposure to a neutral beam of hyperthermal atomic and molecularoxygen"," Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37. L1455-L1457 (1998)
Tagawa M.,et al.: "“Formation of thin oxide films on room-temperature silicon(100)by exposure to a neutral beam of hyperthermal atomic and molecularoxygen"," Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37. L1455-L1457 (1998)
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Takawa M.,et al.：“通过暴露于超高温原子和分子氧的中性束，在室温硅 (100) 上形成薄氧化膜”，Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37。 L1455 -L1457 (1998)
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