Structure modification of films de-posited by HiPIMS with target bias voltage during pulse-off period
Structure modification of films de-posited by HiPIMS with target bias voltage during pulse-off period
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脉冲关闭期间使用目标偏置电压的 HiPIMS 沉积薄膜的结构修改
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Baba
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Hirukawa;R. Hara;T. Nakano;S. Baba
