InterfacepropertiesofGeNx/Gefabricatedbyelectroncyclotronresonanceplasmanitridation
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电子回旋共振等离子体氮化制备GeNx/Ge的界面特性
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Otani,Y.Fukuda,T.Sato,H.Toyota,H.Okamoto,andT.Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Shirai;K.Nakane;M.Shimomura;H.Tatsuoka;Y.Otani,Y.Fukuda,T.Sato,H.Toyota,H.Okamoto,andT.Ono
