Fabrication and characterization of aluminum oxide/chromium oxide superlattice for attenuated phase-shifting mask working at 193 nm wavelength
Fabrication and characterization of aluminum oxide/chromium oxide superlattice for attenuated phase-shifting mask working at 193 nm wavelength
复制标题
用于 193 nm 波长衰减相移掩模的氧化铝/氧化铬超晶格的制造和表征
DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00137-2
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Lon A. Wang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
F. Lai;Lon A. Wang
