Focusing and Positioning of Ion Beam for Sputter Depth Profiling using a Coaxicial Sample Stage and a Dual Nano-ammter
Focusing and Positioning of Ion Beam for Sputter Depth Profiling using a Coaxicial Sample Stage and a Dual Nano-ammter
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使用同轴样品台和双纳米电流计进行溅射深度分析的离子束聚焦和定位
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Kodama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Inoue;K.Kurahashi;K.Kodama
