Vacuum Arc Deposition of Homogeneous Amorphous Carbon Films at High Growth Rates

Vacuum Arc Deposition of Homogeneous Amorphous Carbon Films at High Growth Rates
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高生长率均质非晶碳膜的真空电弧沉积

DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
New Diamond and Frontier Carbon Technology 16, 5
影响因子：
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通讯作者：
Atsushi Hirata
Atsushi Hirata
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Mutsumi Horikoshi;Atsushi Hirata

文献摘要

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