Molecular beam epitaxial growth of GaAs1−XNX with dispersive nitrogen source

Molecular beam epitaxial growth of GaAs1−XNX with dispersive nitrogen source
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分散氮源 GaAs1−XNX 分子束外延生长

DOI:
10.1016/s0022-0248(02)01354-4
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发表时间:
2002
影响因子:
1.8
通讯作者:
W. Fan
W. Fan
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
S. Wang;S. Yoon;T. K. Ng;W. Loke;W. Fan

文献摘要

参考文献

被引文献

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DOI: 10.1143/jjap.35.1273
发表时间: 1996-02-01
期刊: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS
影响因子: --
作者:
Kondow, M;Uomi, K;Yazawa, Y
通讯作者: Yazawa, Y