Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique
Internal Stress in Nickel Films Electrodeposited by a Pulse Current Technique
复制标题
脉冲电流技术电沉积镍膜的内应力
DOI：
--
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Saitou
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Nishimura;M. Saitou
