X線定在波の位相計測を用いた分光測定の探査深度制御 : Fe/Si界面への応用
X線定在波の位相計測を用いた分光測定の探査深度制御 : Fe/Si界面への応用
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使用 X 射线驻波相位测量进行光谱测量中的勘探深度控制：在 Fe/Si 界面上的应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
江島丈雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
辻見裕史;植寛素;南英俊;江島丈雄
