低仕事関数金属を用いたn型4H-SiCに対する低ショットキー障壁コンタクトの実現

低仕事関数金属を用いたn型4H-SiCに対する低ショットキー障壁コンタクトの実現
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使用低功函数金属实现n型4H-SiC的低肖特基势垒接触

DOI:
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发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
中塚理
中塚理
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
土井拓馬;柴山茂久;坂下満男;清水三聡;中塚理

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