Deposition chemistry in the Cat-CVD processes of the SiH4/NH3 system
Deposition chemistry in the Cat-CVD processes of the SiH4/NH3 system
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SiH4/NH3 系统 Cat-CVD 工艺中的沉积化学
DOI：
10.1016/s0040-6090(03)00124-x
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
H. Matsumura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Umemoto;T. Morimoto;Moroyuki Yamawaki;Y. Masuda;A. Masuda;H. Matsumura
