T.Saito,et al.: "Deposition Chemistry of CVD-WSix Process from WF_6/SiH_<>Cl_2" Proceedings of Advanced Metalization for VLSI Applications in 1994. (印刷中).
T.Saito,et al.: "Deposition Chemistry of CVD-WSix Process from WF_6/SiH_<>Cl_2" Proceedings of Advanced Metalization for VLSI Applications in 1994. (印刷中).
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T. Saito 等人：“WF_6/SiH_<>Cl_2 的 CVD-WSix 工艺的沉积化学”1994 年用于 VLSI 应用的高级金属化论文集。（正在出版）。
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