Si 単結晶薄膜におけるピコ秒格子歪み分布の解析

Si 単結晶薄膜におけるピコ秒格子歪み分布の解析
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单晶硅薄膜皮秒晶格应变分布分析

DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
田中義人
田中義人
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
西森一喜;Marcus Newton;小川奏 ;富樫格;矢橋牧名;河口智也;境田真志;高橋功;市坪哲;松原英一郎;西野吉則;田中義人

文献摘要

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