須田良幸, 三木一司: "Si_<1-x>Ge_x/Si RTDと熱分解法原子層スケール成長技術"シリコンテクノロジー分科会研究集会特集号. 18. 43-47 (2000)
須田良幸, 三木一司: "Si_<1-x>Ge_x/Si RTDと熱分解法原子層スケール成長技術"シリコンテクノロジー分科会研究集会特集号. 18. 43-47 (2000)
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Yoshiyuki Suda、Kazushi Miki：“Si_<1-x>Ge_x/Si RTD 和热解原子层尺度生长技术”硅技术小组委员会研究会议特刊 18. 43-47 (2000)。
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