Masaki Hirayama: "Low-Temperature Growth of High-Integrity Silicon Oxide Films by Oxygen Radical Generated in High-Density Krypton Plasma"Technical Digest, International Electron Devices Meeting 1999. 249-252 (1999)
Masaki Hirayama: "Low-Temperature Growth of High-Integrity Silicon Oxide Films by Oxygen Radical Generated in High-Density Krypton Plasma"Technical Digest, International Electron Devices Meeting 1999. 249-252 (1999)
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Masaki Hirayama：“通过高密度氪等离子体中产生的氧自由基实现高完整性氧化硅薄膜的低温生长”技术文摘，国际电子器件会议 1999 年。249-252 (1999)
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