Negative Oxide Charge in Thermally Oxidized Cr-Contaminated n-Type Silicon Wafers
Negative Oxide Charge in Thermally Oxidized Cr-Contaminated n-Type Silicon Wafers
复制标题
热氧化铬污染 n 型硅片中的负氧化物电荷
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Ikeda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Shimizu;S.Shimada;M.Ikeda
