A 6.x nm beyond EUV source as a future lithography source
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超越 EUV 6.x nm 光源作为未来光刻光源
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Gerard D. O'Sullivan
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takamitsu Otsuka;Bowen Li;Colm O'Gorman;Thomas Cummins;Hao Tan;Deirdre Kilbane;Takeshi Higashiguchi;Noboru Yugami;Weihua Jiang;Akira Endo;Padraig Dunne;and Gerard D. O'Sullivan
