電子デバイスへの応用に向けたNiO薄膜およびNiO/絶縁膜に与えるポストプロセスの影響
電子デバイスへの応用に向けたNiO薄膜およびNiO/絶縁膜に与えるポストプロセスの影響
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后处理对用于电子设备应用的 NiO 薄膜和 NiO/绝缘膜的影响
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
杉山 睦
中科院分区：
文献类型：
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作者：
岡田 浩明;王 澤樺;田沼 涼;杉山 睦
