Plasmanitrieren von Aluminiumlegierungen
Plasmanitrieren von Aluminiumlegierungen
复制标题
铝电解等离子体
DOI：
--
复制
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. Biermann
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Dalke;H. Spies;H. Biermann
用于培养一种氮化铝（AlN）-Schicht的氮化铝材料。这是氮氧化物的悲剧，也是其自身特性的体现，它使其与AlN-Schicht和Al-Substrat的区别变得明显。Um nitrierte Al-Legierungen auch für Beanspruchungen mit hohen Flächenlasten nutzbar zu machen，sind zusätzliche Maßnahmen zur Abstützung notwendig. Elektronenstrahl-Flüssigphasenprozesse ohne or der mit Zusatzstoff ermöglichen insbesondere für Al-Werkstoffe durch die Modifizierung der chemischen Zusammensetzung des randschichtnahen Gefüges die Erzeugung verschleiden- und ermüdungsbeständiger Randschichten für größere Flächenlasten.
Kurzfassung Das Nitrieren von Aluminium-Werkstoffen führt zur Bildung einer harten Aluminiumnitrid(AlN)-Schicht. Jedoch ist die Tragfähigkeit der Nitridschicht aufgrund der Eigenschaftsunterschiede zwischen der sehr harten AlN-Schicht und dem weichen Al-Substrat stark begrenzt. Um nitrierte Al-Legierungen auch für Beanspruchungen mit hohen Flächenlasten nutzbar zu machen, sind zusätzliche Maßnahmen zur Abstützung notwendig. Elektronenstrahl-Flüssigphasenprozesse ohne oder mit Zusatzstoff ermöglichen insbesondere für Al-Werkstoffe durch die Modifizierung der chemischen Zusammensetzung des randschichtnahen Gefüges die Erzeugung verschleiß- und ermüdungsbeständiger Randschichten für größere Flächenlasten.