K.Ueno et al.: "Highly-stable passivation of a Si (111) surface using bilayer-GaSe"Appl. Surf. Sci.. (印刷中). (2002)
K.Ueno et al.: "Highly-stable passivation of a Si (111) surface using bilayer-GaSe"Appl. Surf. Sci.. (印刷中). (2002)
复制标题
K. Ueno 等人:“使用双层 GaSe 实现 Si (111) 表面的高度稳定钝化”Sci.(出版中)。
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者: