シリコントランジスタのゲート制御による電子正孔系の形成手法の確立

シリコントランジスタのゲート制御による電子正孔系の形成手法の確立
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硅晶体管栅极控制形成电子空穴系统方法的建立

DOI:
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发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
小野行徳
小野行徳
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
久米仁也;堀匡寛;小野行徳

文献摘要

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