Relaxed germanium films on silicon (110)

Relaxed germanium films on silicon (110)
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硅上松弛的锗薄膜 (110)

DOI:
10.1016/j.tsf.2008.08.018
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发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
2.1
通讯作者:
K. Hofmann
K. Hofmann
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
T. Wietler;E. Bugiel;K. Hofmann

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