Epitaxial Growth of Group IV Semiconductor Nanostructures Using Atomically Controlled Plasma Processing (Invited Paper)
Epitaxial Growth of Group IV Semiconductor Nanostructures Using Atomically Controlled Plasma Processing (Invited Paper)
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使用原子控制等离子体处理的 IV 族半导体纳米结构的外延生长（特邀论文）
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Murota
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Sakuraba、T. Nosaka、K. Sugawara;J. Murota
