低周波領域における薄膜MI素子の磁壁移動に伴う特性変化とその解析
低周波領域における薄膜MI素子の磁壁移動に伴う特性変化とその解析
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薄膜MI器件在低频范围内与畴壁运动相关的特性变化及其分析
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
石山和志
中科院分区：
文献类型：
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作者：
住田千尋;菊池弘昭;植竹宏明;薮上信;枦修一郎;石山和志
