絶縁性Si_3N_4セラミックスの放電創成加工に関する研究
絶縁性Si_3N_4セラミックスの放電創成加工に関する研究
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绝缘Si_3N_4陶瓷放电加工研究
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤啓光,谷貴幸,毛利尚武
中科院分区：
文献类型：
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作者：
大西有希;天谷賢治.;後藤啓光,谷貴幸,毛利尚武;後藤啓光,谷貴幸,毛利尚武
