真空蒸着と低温アニールによるBi媒介Geナノドット形成-3
真空蒸着と低温アニールによるBi媒介Geナノドット形成-3
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真空蒸发和低温退火双介导Ge纳米点形成3
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡本 浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
対馬和都;滝田健介;俵 毅彦;舘野功太;章 国強;後藤秀樹;池田高之;水野誠一郎;岡本 浩
