Growth of gallium nitride by hydride vapor-phase epitaxy

Growth of gallium nitride by hydride vapor-phase epitaxy
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氢化物气相外延生长氮化镓

DOI:
10.1016/s0022-0248(97)00075-4
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发表时间:
1997
影响因子:
1.8
通讯作者:
N. Johnson
N. Johnson
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
R. Molnar;W. Götz;L. Romano;N. Johnson

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