Y.Yamashita: "Effect of interface roughress on the density of interface states at ultrathin oxide/Si interface:XPS measurements under biases" Applied Surface Science. 117/118. 176-180 (1997)
Y.Yamashita: "Effect of interface roughress on the density of interface states at ultrathin oxide/Si interface:XPS measurements under biases" Applied Surface Science. 117/118. 176-180 (1997)
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Y.Yamashita：“界面粗糙度对超薄氧化物/Si 界面界面态密度的影响：偏置下的 XPS 测量”应用表面科学。
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