Gas phase kinetics analysis and implications for silicon carbide chemical vapor deposition
Gas phase kinetics analysis and implications for silicon carbide chemical vapor deposition
复制标题
碳化硅化学气相沉积的气相动力学分析及其影响
DOI：
10.1016/0022-0248(88)90096-6
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发表时间：
1988
影响因子：
1.8
通讯作者：
J. Wormhoudt
中科院分区：
文献类型：
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作者：
C. Stinespring;J. Wormhoudt
