磁場制御によるMCF平面研磨における加工量分布と流速分布の関係
磁場制御によるMCF平面研磨における加工量分布と流速分布の関係
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磁场控制MCF表面抛光加工量分布与流速分布的关系
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
尾苗晃一，赤羽里夢，西田均，山本久嗣
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yasushi Ido;Keisuke Asakura;Hitoshi Nishida;渡辺祥央，關谷克彦，田中隆太郎，山田啓司，山根八洲男;関谷克彦，武田哲夫，山田啓司，山根八洲男;西田均，島田邦雄，吉野一郎;金谷航葵，西田均，山本久嗣，島田邦雄，井門康司;西田均，西野奨悟，島田邦雄，井門康司，山本久嗣;西田均;西野奨悟，和田雅史，金谷航葵，西田均，山本久嗣;尾苗晃一，赤羽里夢，西田均，山本久嗣
