H.Sakaue: ""Low Energy Bias Sputtering of SiO_2 into High Aspect Ratio Trench Employing Axially Confined Helicon Wave Plasma"" Extended Abstr.of the 1994 Intern.Conf.on Sol.St.Devs.and Mats.Yokohama. 643-645 (1994)
H.Sakaue: ""Low Energy Bias Sputtering of SiO_2 into High Aspect Ratio Trench Employing Axially Confined Helicon Wave Plasma"" Extended Abstr.of the 1994 Intern.Conf.on Sol.St.Devs.and Mats.Yokohama. 643-645 (1994)
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H.Sakaue：“采用轴向约束螺旋波等离子体将 SiO_2 低能量偏置溅射到高深宽比沟槽中”，1994 年 Intern.Conf.on Sol.St.Devs.and Mats.Yokohama 的扩展摘要。
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