K. Sasaki, T. Hasu, K. Sasaki and T. Hata: "Limited Reaction Growth of YSZ (ZrO2 : Y2O3) Thin Films for Gate Insulator"Proc. Of ISSP. 41-44 (2001)
K. Sasaki, T. Hasu, K. Sasaki and T. Hata: "Limited Reaction Growth of YSZ (ZrO2 : Y2O3) Thin Films for Gate Insulator"Proc. Of ISSP. 41-44 (2001)
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K. Sasaki、T. Hasu、K. Sasaki 和 T. Hata：“用于栅极绝缘体的 YSZ (ZrO2 : Y2O3) 薄膜的有限反应生长”Proc。
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