M. Takahashi, T. Nakaiso, K. Kodama and M. Noda, and M. Okuyama: "Effect of Leakage Current Through Ferroelectric and Insulator on Retention Characteristics on Metal-Ferroelectric- Insulator-Semiconductor Structure"Integrated Ferroelectrics. 40. 125-134 (
M. Takahashi, T. Nakaiso, K. Kodama and M. Noda, and M. Okuyama: "Effect of Leakage Current Through Ferroelectric and Insulator on Retention Characteristics on Metal-Ferroelectric- Insulator-Semiconductor Structure"Integrated Ferroelectrics. 40. 125-134 (
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M. Takahashi、T. Nakaiso、K. Kodama、M. Noda 和 M. Okuyama：“通过铁电体和绝缘体的漏电流对金属-铁电体-绝缘体-半导体结构的保持特性的影响”集成铁电体。
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