Reduction of Threading Dislocation Density in 2H-AIN Grown on 6H-SiC(0001) by Minimizing Unintentional Active-Nitrogen Exposure before Growth

Reduction of Threading Dislocation Density in 2H-AIN Grown on 6H-SiC(0001) by Minimizing Unintentional Active-Nitrogen Exposure before Growth
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通过最大限度地减少生长前无意的活性氮暴露,降低在 6H-SiC(0001) 上生长的 2H-AIN 中的螺纹位错密度

DOI:
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发表时间:
2011
影响因子:
2.3
通讯作者:
J.Suda
J.Suda
中科院分区:
物理与天体物理3区
文献类型:
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作者:
H.Okumura;T.Kimoto;J.Suda

文献摘要

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