マグネトロンスパッタリング法により作製した傾斜機能亜酸化ケイ素膜の放射冷却特性

マグネトロンスパッタリング法により作製した傾斜機能亜酸化ケイ素膜の放射冷却特性
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磁控溅射法制备功能梯度低氧化硅薄膜的辐射冷却性能

DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
粉体および粉末冶金 52・11
影响因子:
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通讯作者:
増本 博
増本 博
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
後藤 孝;宮崎英敏;増本 博

文献摘要

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