渡部幹雄: "反応性スパッタ法によるSi基板上へのY組成制御YSZ薄膜のヘテロエピタキシャル成長" 信学技報(社団法人 電子情報通信学会). CPM96-98. 19-26 (1996)
渡部幹雄: "反応性スパッタ法によるSi基板上へのY組成制御YSZ薄膜のヘテロエピタキシャル成長" 信学技報(社団法人 電子情報通信学会). CPM96-98. 19-26 (1996)
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Mikio Watanabe：“通过反应溅射在 Si 衬底上异质外延生长 Y 成分控制的 YSZ 薄膜”IEICE 技术报告 (IEICE) 19-26 (1996)。
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