Magnetoresistance Properties of Planar-Type Tunnel Junctions with Ferromagnetic Nanogap System Fabricated by Electromigration Method
Magnetoresistance Properties of Planar-Type Tunnel Junctions with Ferromagnetic Nanogap System Fabricated by Electromigration Method
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电迁移法铁磁纳米间隙系统平面型隧道结的磁阻特性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J.Shirakashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Tomoda;K.Takahashi;M.Hanada;W.Kume;S.Itami;T.Watanabe;J.Shirakashi
