Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing
Removal of Surface Contamination by Atomic Hydrogen Annealing
复制标题
通过原子氢退火去除表面污染
DOI：
10.2494/photopolymer.33.419
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发表时间：
2020
影响因子：
0.8
通讯作者：
Watanabe Takeo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Heya Akira;Harada Tetsuo;Niibe Masahito;Sumitomo Koji;Watanabe Takeo
