Fabrication of ultraviolet-light emitting Si/SiO2 multilayered films using radio-frequency magnetron sputtering and high-temperature annealing
Fabrication of ultraviolet-light emitting Si/SiO2 multilayered films using radio-frequency magnetron sputtering and high-temperature annealing
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利用射频磁控溅射和高温退火制备紫外光发射Si/SiO2多层薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
O. Hanaizumi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Miura;Y. Kato;H. Hoshino;O. Hanaizumi
