2020版 薄膜作製応用ハンドブック、第２編「薄膜の作製と加工」第１章「基板と表面処理」、第２節 半導体基板（Si・Ge・SiC）
2020版 薄膜作製応用ハンドブック、第２編「薄膜の作製と加工」第１章「基板と表面処理」、第２節 半導体基板（Si・Ge・SiC）
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2020年版薄膜制造应用手册，第2卷“薄膜制造和加工”第1章“衬底和表面处理”第2节半导体衬底（Si/Ge/SiC）
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
有馬健太（分担執筆）
中科院分区：
文献类型：
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作者：
増本晴文;川合健太郎;山村和也;有馬健太;Kenta Arima;有馬健太;羽深 等 他11名;礒部 晶 他15名;有馬健太（分担執筆）
