Sputtering of amorphous silicon films by 0.5 to 5 keV Ar+ ions
Sputtering of amorphous silicon films by 0.5 to 5 keV Ar+ ions
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用 0.5 至 5 keV Ar 离子溅射非晶硅薄膜
DOI：
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发表时间：
1979
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Etzkorn
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Kirschner;H. Etzkorn
