Applications in Microscopy and Lithography for a Heralded Electron Source
Applications in Microscopy and Lithography for a Heralded Electron Source
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预示电子源在显微镜和光刻中的应用
DOI：
10.1109/ivnc57695.2023.10188972
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Keathley, Phillip. D.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Koppell, Stewart A.;Simonaitis, John W.;Krielaart, Maurice A.R.;Ates, Omer E.;Putnam, William P.;Berggren, Karl K.;Keathley, Phillip. D.
影响因子：
13.6
作者：
Ben Hayun A;Reinhardt O;Nemirovsky J;Karnieli A;Rivera N;Kaminer I
通讯作者：
Kaminer I
相干史密斯-珀塞尔辐射用于亚皮秒时间尺度的微创束长度测量
DOI：
--
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
作者：
P. Heil;K. Aulenbacher;C. Matejcek;S. Friederich;M. Bruker;F. Fichtner
通讯作者：
F. Fichtner
电子束光刻和线宽测量中的散粒噪声。
影响因子：
--
作者：
P. Kruit;S. Steenbrink
通讯作者：
S. Steenbrink