Si酸化反応における水素イオン照射効果
Si酸化反応における水素イオン照射効果
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氢离子辐照对硅氧化反应的影响
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤智子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ling Wang;Akira Yoshiasa;他;Jiro Soda;Fumio Hirata;伊藤智子
