Nitrogen Plasma induced HfSiON growth from Hf nanoparticles on SiO_2/Si(100)-Roughness improvement by interfacial SiO_2-
Nitrogen Plasma induced HfSiON growth from Hf nanoparticles on SiO_2/Si(100)-Roughness improvement by interfacial SiO_2-
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氮等离子体诱导 Hf 纳米粒子在 SiO_2/Si(100) 上生长 HfSiON -通过界面 SiO_2- 提高粗糙度
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
北嶋武
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Sugimoto;N.Ikeda;N.Ozaki;Y.Watanabe;S.Ohkouchi;T.Kuroda;T.Mano;T.Ochiai;K.Kuroda;N.Koguchi;K.Sakoda;K.Asakawa;北嶋武
