Reduction of buried microstructure diffraction in fabricating curved microstructure by multiple exposure method
Reduction of buried microstructure diffraction in fabricating curved microstructure by multiple exposure method
复制标题
多次曝光法制造弯曲微结构时减少埋藏微结构衍射
DOI：
10.1364/oe.26.031085
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
3.8
通讯作者：
Zhang Weiwei
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Luo Ningning;Xu Guanying;Zhang Zhimin;Zhang Weiwei
