Interfacial Capacitance between an Fe3 O4 Film and a Nb:TiO3 Substrate
Interfacial Capacitance between an Fe3 O4 Film and a Nb:TiO3 Substrate
复制标题
Fe3 O4 薄膜和 Nb:TiO3 基底之间的界面电容
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mikk Lippmaa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ryota Takahashi;Yasuo Cho;Mikk Lippmaa
