An infrared study of the surface chemistry of titanium nitride atomic layer deposition on silica from TiCl4 and NH3
An infrared study of the surface chemistry of titanium nitride atomic layer deposition on silica from TiCl4 and NH3
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TiCl4 和 NH3 二氧化硅上氮化钛原子层沉积表面化学的红外研究
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
W. Desisto
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Mark Q. Snyder;B. McCool;J. Dicarlo;C. Tripp;W. Desisto
