Fabrication of Polycrystalline Silicon Thin Films on Glass Substrates Using Ge Nano-Islands as Nuclei

Fabrication of Polycrystalline Silicon Thin Films on Glass Substrates Using Ge Nano-Islands as Nuclei
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以Ge纳米岛为核在玻璃衬底上制备多晶硅薄膜

DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Ext.Abst. of Int.21st Century COE Symp. on Atomistic Fabrication Technology 19-29
影响因子：
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通讯作者：
K.Yasutake
K.Yasutake
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
K.Minami;C.Yoshimoto;H.Ohmi;T.Shimura;H.Kakiuchi;H.Watanabe;K.Yasutake

文献摘要

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