High throughput physical vapor deposition growth of Pb(ZrxTi1-x)O3 perovskite thin films growth on silicon substrates.
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DOI：
10.1016/j.tsf.2024.140239
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发表时间：
2024-01
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
Ioanna Bakaimi;Brian E. Hayden;Colin J. Mitchell;Goran Z. Mashanovich
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Ioanna Bakaimi;Brian E. Hayden;Colin J. Mitchell;Goran Z. Mashanovich
